多重曝光技术来制作7nm工艺的芯片(多重曝光)

导读 大家好,我是小典,我来为大家解答以上问题。多重曝光技术来制作7nm工艺的芯片,多重曝光很多人还不知道,现在让我们一起来看看吧!1、首先...

大家好,我是小典,我来为大家解答以上问题。多重曝光技术来制作7nm工艺的芯片,多重曝光很多人还不知道,现在让我们一起来看看吧!

1、首先要注意前后两次曝光,要注意构图的前后呼应和配合,突出主题,也就是决定你的主角与配角。

2、 简单地说第一次拍摄应该选择干净利落的画面,而第二次再曝上较为复杂的作为点缀的图片。

3、 另外一种方式是变换焦距多次曝光,是指对同一景物或者对不同的景物在拍摄时,全部实焦拍摄和虚焦与实焦相结合拍摄的多重曝光。

4、 还有一种多次曝光的方法是遮挡法多次曝光,所谓的遮挡法,就是先遮挡镜头的一半拍摄一次被摄物体,然后再遮挡镜头的另一半拍摄一次不同位置的被摄物体,这样就可以将被摄物体同时曝光到一张底片上。

5、 还有一种多重曝光技巧是叠加法多次曝光,在画面的某些区域预先留出位置,在预留区域内多次曝光,也可以形成一种极富表现力的效果。

本文到此讲解完毕了,希望对大家有帮助。

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