多重曝光技术来制作7nm工艺的芯片(多重曝光)

导读 大家好,我是小典,我来为大家解答以上问题。多重曝光技术来制作7nm工艺的芯片,多重曝光很多人还不知道,现在让我们一起来看看吧!1、如果...

大家好,我是小典,我来为大家解答以上问题。多重曝光技术来制作7nm工艺的芯片,多重曝光很多人还不知道,现在让我们一起来看看吧!

1、如果是用老式传统胶片相机,做多重曝光,通常的做法是:用黑色物体挡住部分镜头拍一次,再次挡住另一部分再拍摄一次.倘若是手动卷片的相机,可以在挡住部分镜头的同时,手动卷片(卷多少取决于多重曝光的次数).

2、如果是同一场景的多重曝光,曝光量控制取决于你需要的效果,比如拍摄华灯初上的夜景,同时又想让周围的建筑物也获得准确的曝光,拍摄者可以在天将黑未黑之时,先拍摄一张周边景物的照片,然后用稳定的三脚架保持相机的拍摄位置不变。盖住镜头,等1-2小时后,灯火通明时再曝光一次,就可以得到两次曝光后的照片:灯光和周围的建筑物都能正确曝光.一般曝光叠加的效果(假设相机完全没有位置移动,场景也完全相同)是以较明亮的为准,也就是:即使对曝光正常的底片再次曝光,如果曝光量小于前一次,那么作用几乎可以忽略,除非加大曝光量.

3、多重曝光可以移动机位和改变焦距,效果如何就取决于拍摄者的经验和熟练程度.

4、也有些暗房高手,能把冲好后的不同的胶片叠加在一起(把不需要的胶片部分剪掉),然后合成到一张照片上.

5、如果是数码相机,这一切就轻而易举了.

6、尼康部分单反数码相机支持多重曝光功能,任何两张或更多的(最大允许数量随相机型号不同而异)RAW格式的照片都能通过相机内部的软件合成,模拟多重曝光效果,因此,可以改变焦距甚至场景.整个过程能够在LCD上预览效果,不满意可以重新合成.

7、通过平面图象处理软件后期合成更方便.

本文到此讲解完毕了,希望对大家有帮助。

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